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產(chǎn)品型號(hào)：PPS-8200p1/8300p1
更新時(shí)間：2024-08-24簡(jiǎn)要描述：日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī) PPS-8200p1/8300p1用途：支持各種應(yīng)用特長(zhǎng)-寬頻譜光刻 (與菜單連動(dòng)的 ghi線 gh線, i線的自動(dòng)切換)-搭載可變NA功能 (可變?yōu)?.16和0.1)-最多8Field的拼接設(shè)計(jì)格式-光學(xué)系統(tǒng)不受感光材揮發(fā)氣體和周圍環(huán)境中化學(xué)物質(zhì)影響
| 品牌 | 其他品牌 |
|---|
日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī) PPS-8200p1/8300p1
用途：支持各種應(yīng)用
特長(zhǎng)
-寬頻譜光刻 (與菜單連動(dòng)的 ghi線 gh線, i線的自動(dòng)切換)
-搭載可變NA功能 (可變?yōu)?.16和0.1)
-最多8Field的拼接設(shè)計(jì)格式
-光學(xué)系統(tǒng)不受感光材揮發(fā)氣體和周圍環(huán)境中化學(xué)物質(zhì)影響
制品規(guī)格
| 型式 | PPS-8200p1/8300p1 |
| wafer尺寸 | 6/8/12 英寸 |
| NA（開口數(shù)） | 0.16、0.1可變 |
| 縮小比 | 1:1 |
| Field尺寸 | 52mm × 33mm |
| 光刻波長(zhǎng) | ghi-Line gh-line i-line(與菜單連動(dòng)) |
| 視野尺寸 | 6inch |
| 重復(fù)對(duì)位精度 | ≦0.5 µm(|Ave|+3σ) |
| 裝置尺寸／重量 | （W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg |
日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī) PPS-8200p1/8300p1
用途：支持各種應(yīng)用
特長(zhǎng)
-寬頻譜光刻 (與菜單連動(dòng)的 ghi線 gh線, i線的自動(dòng)切換)
-搭載可變NA功能 (可變?yōu)?.16和0.1)
-最多8Field的拼接設(shè)計(jì)格式
-光學(xué)系統(tǒng)不受感光材揮發(fā)氣體和周圍環(huán)境中化學(xué)物質(zhì)影響
制品規(guī)格
| 型式 | PPS-8200p1/8300p1 |
| wafer尺寸 | 6/8/12 英寸 |
| NA（開口數(shù)） | 0.16、0.1可變 |
| 縮小比 | 1:1 |
| Field尺寸 | 52mm × 33mm |
| 光刻波長(zhǎng) | ghi-Line gh-line i-line(與菜單連動(dòng)) |
| 視野尺寸 | 6inch |
| 重復(fù)對(duì)位精度 | ≦0.5 µm(|Ave|+3σ) |
| 裝置尺寸／重量 | （W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg |
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